芯天成光學鄰近矯正平臺EsseOPC

EsseRBOPC
EsseRBAF
EsseMBOPC
EsseVerify
產品簡介
芯天成基于規(guī)則的版圖修正工具EsseRBOPC(RBOPC,Rule-based Optical Proximity Correction),可為各類技術節(jié)點提供穩(wěn)定、準確和高速的工業(yè)級全芯片版圖修正解決方案,以應對半導體制造工藝中的光學臨近效應、刻蝕效應和良率瓶頸等問題。
該產品基于分布式計算架構和異種任務智能集群技術、集成高性能統(tǒng)一數(shù)據(jù)庫、高性能幾何圖形引擎、標簽引擎和區(qū)域線段化引擎等先進算法,能夠高速處理超大規(guī)模版圖數(shù)據(jù),為復雜幾何圖形及先進工藝規(guī)則提供高精度的解決方案。
核心優(yōu)勢
支持先進技術節(jié)點全版圖簽核驗證;
制造端EDA共用高速數(shù)據(jù)底座;
提供AI及GPU加速技術;
異種任務智能集群的分布式構架;
高度可定制化的用戶編程接口。
產品功能
基于幾何特征的圖形選取及操作;
圖形特征標簽模塊(Tagging);
精確的版圖線段化模塊;
快速參數(shù)化修正模塊;
嚴格的內置規(guī)則檢查引擎(MRC)。
應用方案
基于規(guī)則的高效光學臨近效應修正;
全部技術節(jié)點的刻蝕效應補償;
定制化局部熱點區(qū)域修正。
產品簡介
芯天成基于規(guī)則的輔助圖形工具EsseRBAF(RBAF,Rule-based Assist Features),能夠高效的為工業(yè)級全芯片版圖開發(fā)全面、精確的亞分辨率輔助圖形,使芯片制造在光刻工藝中獲得更大的工藝窗口、更穩(wěn)定的晶圓成像和更優(yōu)異的產品品質。
亞分辨率輔助圖形是光學臨近修正在先進技術節(jié)點中的重要組成部分。芯片制造商在芯片版圖中專門生成低于光刻系統(tǒng)分辨率的輔助圖形,來幫助目標區(qū)域在不同工藝條件下?lián)碛袃?yōu)異的光強對比度,最終獲得符合標準的穩(wěn)健圖形。
核心優(yōu)勢
制造端EDA共用高速數(shù)據(jù)底座;
提供AI及GPU加速技術;
異種任務智能集群的分布式構架;
高度可定制化的用戶編程接口;
高速輔助圖形生成引擎;
支持先進技術節(jié)點全版圖簽核驗證。
產品功能
支持正向 AF(SRAF)和反向 AF(SRIF);
復雜幾何環(huán)境的 AF 生成;
基于標簽(Tagging)技術的AF生成;
多種自定義優(yōu)先級的沖突處理機制。
應用方案
芯片金屬層亞分辨率散射條;
芯片通孔層亞分辨率輔助圖形;
定制化亞分辨率輔助圖形模板;
復雜環(huán)境的輔助圖形嵌入。
產品簡介
芯天成基于模型(支持工藝窗口模型)的版圖修正工具EsseMBOPC(MBOPC,Model-based Optical Proximity Correction),可為各類技術節(jié)點提供穩(wěn)定、準確和高速的工業(yè)級全芯片版圖修正解決方案。EsseMBOPC可導入工藝窗口模型(Process Window Model),生成符合制造規(guī)則的掩模圖形;提升光刻成像質量,使光刻圖像更加接近目標圖形;并同時提升光刻工藝窗口,滿足半導體制造的良率要求。該產品基于分布式計算架構和異種任務智能集群技術、集成高性能統(tǒng)一數(shù)據(jù)庫、高性能幾何圖形引擎、標簽引擎和區(qū)域線段化引擎等先進算法,能夠高速處理超大規(guī)模版圖數(shù)據(jù),為復雜幾何圖形及先進工藝規(guī)則提供高精度的解決方案。
核心優(yōu)勢
支持先進技術節(jié)點全版圖簽核驗證
制造端EDA共用高速數(shù)據(jù)底座;
提供AI及GPU加速技術;
異種任務智能集群的分布式構架;
高度可定制化的用戶編程接口;
產品功能
嚴格的內置規(guī)則檢查引擎(MRC)
基于幾何特征的圖形選取及操作;
圖形特征標簽模塊(Tagging);
精確的版圖線段化模塊;
可導入模型(支持工藝窗口模型);
應用方案
基于模型的高效光學臨近效應修正;
全部技術節(jié)點的刻蝕效應補償;
定制化局部熱點區(qū)域修正。
產品簡介
芯天成基于模型的驗證工具EsseVerify,可為各類技術節(jié)點提供穩(wěn)定、準確和高速的工業(yè)級全芯片版圖OPC結果驗證方案。該產品可導入模型和并生成光刻仿真圖像;內置的檢測器可快速效捕獲各類型熱點(Hot Spot),并有效預測光刻后的工藝窗口(Process Window),以驗證OPC結果是否符合半導體工藝制造和良率要求。
該產品基于分布式計算架構和異種任務智能集群技術、集成高性能統(tǒng)一數(shù)據(jù)庫、高性能幾何圖形引擎、標簽引擎和區(qū)域線段化引擎等先進算法,能夠高速處理超大規(guī)模版圖數(shù)據(jù),為復雜幾何圖形及先進工藝規(guī)則提供高精度的解決方案。
核心優(yōu)勢
提供AI及GPU加速技術;
異種任務智能集群的分布式構架;
高度可定制化的用戶編程接口;
支持先進技術節(jié)點全版圖簽核驗證。
產品功能
模型導入和光刻圖像仿真(simulation);
內置豐富的檢測器,可快速捕獲多種類型的熱點;
光刻工藝窗口預測;
高速數(shù)據(jù)庫,支持全芯片范圍熱點記錄;
熱點標記并修復;
應用方案
掩膜圖形制造規(guī)則檢查;
光刻圖像成像質量檢查;
熱點標記和修復;